光照强度对黄瓜及南瓜幼苗生长的影响

摘 要：探讨不同光照强度对黄瓜及南瓜幼苗生长的影响，为确定设施栽培黄瓜及南瓜种苗培养光照条件提供理论 指导。以津研4号黄瓜和黑籽南瓜为试材，在5种光照强度（1000、2000、3000、4000、5000 lx）下进行处理，测定黄瓜和南瓜幼苗下胚轴直径和长度及叶绿素荧光参数等指标。结果表明，4000 lx 处理下黄瓜下胚轴长度、直径均最大，分别为21.17和1.97 mm，黄瓜Fv/Fm随光照强度增加逐渐降低，其F0随光照强度增大逐渐增大，qN 随光照强度增大先减小后逐渐增大。南瓜幼苗在3000 lx 处理下F0最大，其下胚轴随着光照强度的增加，南瓜下胚轴长度呈先逐渐降低后升高趋势，南瓜下胚轴直径呈先升高后降低再逐渐升高趋势。综上所述，不同光照强度对黄瓜和南瓜幼苗的生长有较大影响，黄瓜和南瓜分别在4000 lx和3000 lx的光照强度下生长较好。本试验结果为生产上培育适宜的黄瓜和南瓜种苗提供了光环境调控依据。